Elaboration et caractérisation de films épais piézoélectriques sérigraphiés sur alumine, silicium, aciers inoxydables et vitrocéramiques.

Auteur(s) : SEVEYRAT_SIMON, Laurence Contributeurs : GONNARD, Paul Éditeur(s) : INSA de Lyon Date de publication : 18-04-2003

Accès à la ressource :  http://docinsa.insa-lyon.fr/these/pont.php?id=seve... Description : Le travail traite de l'élaboration par sérigraphie de couches épaisses ferroélectriques de quelques dizaines de microns d'épaisseur, et de leur caractérisation diélectrique et piézoélectrique, pour des applications dans les microsystèmes. L'emploi de substrats autres que l'alumine a nécessité des modifications du procédé, notamment en ce qui concerne la recherche d'électrodes et de couches barrières adaptées, et l'abaissement du budget thermique par l'ajout d'aides au frittage. Ainsi sont réalisés des films de titanates de plomb sur vitrocéramiques et aciers inoxydables, avec des propriétés proches de celles des matériaux massifs, et des films PZT 52/48 sur silicium avec de bons coefficients d33 (150 pC/N) et kt (0.45), ce dernier étant estimé à l'aide des équations des modèles à ondes planes. Des différences, entre les films épais et les céramiques massives, et entre les divers types de matériaux, sont mises en évidence et discutées. Langue : Français

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